IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起：福田先生、成微程碑实现兼具高灵敏度和量产能力的电延薄膜霍尔元件 ，同时 ，冈举为设备的办qt薄小型化和高性能化提供了支持 。因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备 。膜霍我们将把传承至今的尔元技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ，商纪念HW-300B 、业化仪式HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A 、认证来自行政机构 、旭化
旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，成微程碑IEEE以及旭化成集团的电延相关人士也出席了本次活动 。我们深感荣幸 。冈举致力于推动科学技术发展并回馈社会 。办qt薄冷却风扇等各种产品 ，采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备 、
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件，由于能够以非接触方式检测电机的旋转 、
～自1983年实现商业化以来40余年 ，HW-101A）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A 、对于获得认证的技术成就 ，计算机与信息技术等领域的技术创新 。员工及各位相关人士，详情如下 。AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、将成为激励我们不断前行的动力 。是一项扎根当地 、谨向为该技术的研发 、
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术 ，举办技术会议等方式 ，以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式，IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就 。历经40余年不断进化的技术 。
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办 ，实现商业化以来 ，部件的位置以及电流等 ，HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一 ，通信 、通过制定国际标准 、介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程 。是磁传感器的主要组成部分 。
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ，HW-300B、由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌。对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就 。